Fujifilm Corporation объявила о значительных инвестициях в размере 20 миллиардов иен для расширения своего бизнеса в области полупроводниковых материалов. Эти средства будут направлены на модернизацию и развитие производственных мощностей в Шизуоке и Оите, Япония.
С учетом роста спроса на полупроводники, вызванного развитием технологий 5G/6G, автономного вождения и искусственного интеллекта, компания стремится обеспечить стабильное и качественное снабжение высокопроизводительными материалами для производства полупроводников. Fujifilm предлагает широкий спектр материалов, включая фоточувствительные вещества и химикаты для тонких пленок, которые необходимы на различных этапах производства.
В Шизуоке будет построено новое здание стоимостью около 13 миллиардов иен, которое позволит улучшить функции разработки и оценки качества передовых фоточувствительных материалов, включая те, что используются в экстремальной ультрафиолетовой литографии. Ожидается, что новое здание начнет работу осенью 2025 года.
В Оите Fujifilm инвестирует 7 миллиардов иен в строительство нового здания, что увеличит производственные мощности на 40%. Открытие этого объекта запланировано на весну 2026 года.
Эти шаги подчеркивают стремление Fujifilm к решению проблем клиентов и расширению своих возможностей на глобальном рынке полупроводниковых материалов.